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二硅化鉬電熱元件的工作方式主要有兩種：間歇性工和連續(xù)性工作。
（1）二硅化鉬元件在實驗電爐，梭式窯等窯爐都是間歇性工作方式。在這種工作環(huán)境下，電熱元件表在加熱與冷卻的熱應(yīng)力過程中，元件表面的石英保護膜會因熱脹冷縮而開裂，最后導(dǎo)致脫落。下次升溫時，保護膜會重新產(chǎn)生，但脫落處會因為保護膜的產(chǎn)生而形成凹坑，經(jīng)過一定次數(shù)的交替后，最細處會因不堪高溫而斷裂。
（2）隧道窯的工作方式是連續(xù)性的，元件在這種環(huán)境中工作時，元件表面與內(nèi)部所承受的熱應(yīng)力過程是基本一致的，所以表面的保護膜在相當(dāng)長的時間內(nèi)是穩(wěn)定的，這樣元件的氧化速度就很慢。長時間使用后，保護膜會變薄，當(dāng)元件表面的硅濃度不足以形成石英保護膜時，會發(fā)生游離鉬的氧化揮發(fā)，并在新的硅化鉬表面生成石英玻璃保護膜。如此反復(fù)不斷的揮發(fā)與生成，元件則會越用越細，最終導(dǎo)致元件最細處超負荷而斷裂。
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